Fabrication of nanostructured materials using block copolymer based lithography

ANDREOZZI, ANDREA
2012

24-gen-2012
Inglese
block copolymers, nanostructures, nanoporous, lithographic applications, polymeric mask
FANCIULLI, MARCO
Università degli Studi di Milano-Bicocca
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14242/170417
Il codice NBN di questa tesi è URN:NBN:IT:UNIMIB-170417