Evolution of Arsenic nanometric distributions in Silicon under advanced ion implantation and annealing processes

Demenev, Evgeny
2013

2013
Inglese
Università degli studi di Trento
TRENTO
143
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14242/176120
Il codice NBN di questa tesi è URN:NBN:IT:UNITN-176120