Electrodeposition and characterization of thin films

GIURLANI, WALTER
2020

2020
Inglese
Thin film, Thickness determination, Coating, XRF, Monte Carlo, Standardless analysis, Electroplating, Electrodeposition, Bismuth, Bismuth selenide, Topological insulator, E-ALD, UPD
145
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14242/192148
Il codice NBN di questa tesi è URN:NBN:IT:UNIFI-192148