CVD growth and characterization of 3C-SiC thin films tesi di dottorato

Carlo, Ricciardi
2004

2004
Inglese
Fabrizio, Pirri
Politecnico di Torino
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14242/227243
Il codice NBN di questa tesi è URN:NBN:IT:POLITO-227243