Analisi e caratterizzazione mediante X.P.S. ed A.R.X.P.S. di film di fluoruri depositati per via anodica su substrato di HgCdTe e delle segregazioni superficiali di ossidi nativi cresciuti su InGaAs
1993
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https://hdl.handle.net/20.500.14242/281363
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URN:NBN:IT:UNIPD-281363